形状計測方法、形状計測装置、チルト計測方法、ステージ装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法

Procede de mesure de forme, dispositif de mesure de forme, procede de mesure d'inclinaison, dispositif de platine, dispositif d'exposition, procede d'exposition et procede de production du dispositif

Shape measurement method, shape measurement device, tilt measurement method, stage device, exposure device, exposure method, and device manufacturing method

Abstract

基準平面に沿って移動するステージ4の反射面7XS,7YSの形状を計測する形状計測方法である。ステージ4をY軸方向に沿って移動しつつ、Y軸方向に関する反射面7XSの1次元形状を、Z軸方向に離間した2つの位置で計測し、その一方と他方の1次元形状データの差分に相当する第1データを求め、反射面7XSのZ軸方向に離間した2つの位置に同時に照射した計測ビームLWXPに基づく計測結果が一定となるようにステージ4を姿勢調整しつつY軸方向に移動するとともに、この移動中にステージ4の姿勢調整に伴うZ軸方向の変位を複数箇所で計測して、Y軸方向に関する該Y軸を中心とする回転量の変化に相当する第2データを求め、前記第1データと前記第2データとの差分に相当する第3データを直線近似して得られた第4データに基づいて前記1次元形状データを補正する。
A shape measurement method for measuring the shape of reflection planes 7XS, 7YS of a stage (4) moving along a reference plane. While moving the stage (4) in the Y axis direction, the primary shape of the reflection plane 7XS associated with the Y axis direction is measured at two positions apart from each other in the Z axis direction, so as to obtain first data corresponding to a difference between one and the other primary shape data. The stage (4) is moved in the Y axis direction while adjusting the posture of the stage (4) so that the measurement result based on the measurement beam LWXP applied simultaneously to two positions apart from each other in the Z axis direction of the reflection plane 7XS is constant. During this movement, displacement of the stage (4) in the Z axis direction accompanying the posture adjustment is measured at a plurality of positions so as to obtain second data equivalent to a change of the rotation amount around the Y axis associated with the Y axis direction. Third data equivalent to a difference between the first data and the second data is subjected to linear approximation to obtain fourth data. According to the fourth data, the primary shape data is corrected.
L'invention concerne un procédé de mesure de forme permettant de mesurer la forme de plans de réflexion 7XS, 7YS d'une platine (4) se déplaçant le long d'un plan de référence. Lors du déplacement de la platine (4) dans le sens de l'axe Y, la forme primaire du plan de réflexion 7XS associé au sens de l'axe Y est mesurée en deux positions différentes l'une de l'autre dans le sens de l'axe Z, afin d'obtenir des premières données correspondant à une différence entre des première et seconde données de forme primaire. La platine (4) est déplacée dans le sens de l'axe Y tout en ajustant la posture de la platine (4) de manière que le résultat de la mesure soit constant sur la base du faisceau de mesure LWXP appliqué simultanément aux deux positions séparées l'une de l'autre, dans le sens de l'axe Z du plan de réflexion 7XS. Pendant ce mouvement, le déplacement de la platine (4) dans le sens de l'axe Z accompagnant le réglage de posture est mesuré en une pluralité de positions, afin d'obtenir des secondes données équivalentes à un changement du degré de rotation autour de l'axe Y associé au sens de l'axe Y. Des troisièmes données, équivalentes à une différence entre les premières données et les secondes données, sont soumises à une approximation linéaire afin d'obtenir des quatrièmes données. Selon les quatrièmes données, des données de la forme primaire sont corrigées.

Claims

Description

Topics

Download Full PDF Version (Non-Commercial Use)

Patent Citations (0)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle

NO-Patent Citations (0)

    Title

Cited By (4)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-2008003056-AJanuary 10, 2008Yokogawa Electric Corp, 横河電機株式会社Xy-stage
    JP-2011119303-AJune 16, 2011Nikon Corp, 株式会社ニコンInterferometer system, stage device and exposure device
    JP-2012138621-AJuly 19, 2012Nikon Corp, 株式会社ニコン移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
    JP-2012147026-AAugust 02, 2012Nikon Corp, 株式会社ニコン移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法